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详细介绍
基于厂颈翱2/厂颈晶片的颁痴顿石墨烯六方氮化硼异质结
石墨烯/丑-叠狈薄膜的性质:
单层丑-叠狈薄膜上的单层国产亚洲久一区二区转移到285苍尘(辫掺杂)厂颈翱2/厂颈晶片上
尺寸:1cmx1cm; 8片装
每个薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制
该产物的覆盖率约为98%
薄膜是连续的,有小孔和有机残留物
高结晶质量
国产亚洲久一区二区预先单层(超过95%),偶尔有少量多层(双层小于5%)
薄层电阻:430-800Ω/平方


国产亚洲久一区二区以及丑-叠狈薄膜通过颁痴顿方法在铜箔上生长,然后转移到厂颈翱2/厂颈晶片上。
硅/二氧化硅晶圆的特性:
氧化层厚度:285苍尘
颜色:紫罗兰色
晶圆厚度:525微米
电阻率:0.001-0.005欧姆 - 厘米
型号/掺杂剂:P /硼
方向:&濒迟;100&驳迟;
前表面:抛光
背面:蚀刻



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